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패턴의 입자 간격을 5로 설정 후 의상 편집을 할 경우, 속도가 너무 느립니다. 어떻게 하죠?

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Question

패턴의 입자 간격을 5로 설정 후 의상 편집을 할 경우, 속도가 너무 느립니다. 어떻게 하죠?

 

Answer

모든 3D 의상 시뮬레이션 소프트웨어의 경우, 하나의 파일이 가지고 있는 메시 개수가 속도에 영향을 주게 됩니다. 메시의 수가 많을수록 속도가 느려지고, 메시의 수가 적을수록 속도가 빨라집니다.

패턴의 입자 간격을 5로 설정할 경우, 하나의 파일이 가지게 되는 메시 개수가 많아져, 프로그램 속도가 느려지는 현상이 자연스럽게 일어나게 됩니다. 때문에, 의상 제작 혹은 수정 작업 시 패턴의 입자 간격은 20으로 설정하고, 모든 의상 제작 및 수정 작업이 끝난 후 패턴의 입자 간격을 5로 낮춰 1~2분 정도 시뮬레이션하시길 권장합니다.

CLO에서의 의상 제작 방법에 대해 더 배우시고 싶으실 경우, Lessons 페이지를 참고하세요.

 

혹, 패턴의 입자 간격을 20으로 설정하였는데도, 프로그램 속도가 느리신가요?

  • 패턴의 개수가 적고 입자 간격을 20으로 설정하였어도, 패턴 자체의 크기가 크다면 (예: 면적이 넓은 플레어스커트) 하나의 파일이 가지고 있는 메시의 개수 자체가 크기 때문에, 프로그램 속도가 느리다고 느끼실 수 있습니다.

  • 또한, 패턴 메시가 사각 메시로 설정이 되있다면, 메시의 특성 상 프로그램의 속도가 다소 느려질 수도 있습니다. 사각 메시 매뉴얼을 참고하여 필요의 경우에만 사용하세요.

  • 프로그램 속도는 패턴 입자 간격뿐만 아니라, 컴퓨터 하드웨어 사양에도 영향을 받습니다. CLO의 권장사양을 참고하세요.

 

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